有消息称，华为3nm芯片，预计在今年年底设计成功。但据罗叔了解，目前国内的光刻机自主研发之路，又遇到一个大难题，那就是ASML，它手中掌握着光刻机大量专利，我们要想成功绕开，着实有不小的难度。

这就不得不提第二个原因了，阿斯麦尔的光刻机几乎，占据了全球所有的市场，连尼康和佳能都只能跟在人家后面，喝点汤。在市场份额全被瓜分的情况下，国内的相关企业看不到前景，自然也就基本放弃了该领域的研发。

然后就是第三个原因，阿斯麦尔的背景太强大了，国内企业在没有强大支持的情况下，如果贸贸然就去触碰这样一个国际巨头，就像拿着鸡蛋去碰石头，最后只能撞得头破血流。

而到了如今，阿斯麦尔在国内的专利体系，也已经布局完成，所以对于这些专利，我们虽然可以使用，但是如果不支付高昂的专利费用，人家肯定是不愿意的，所以就算我们自己的研究光刻机出来了，很可能还是要受到一些限制。

面对这些问题，曾有人提出，要想实现光刻机的突破，或许可以先招纳一下，阿斯麦尔深圳研发中心的人才，如果不行的话，还可以收购阿斯麦尔在深圳的研发中心。

但罗叔认为，不管阿斯麦尔如何，我们自主研发的决心是永远不能变的，虽然这其中的难度可能加大了，但终有一天，我们会完全突破芯片的封锁，你认为呢？张眼看世界，罗叔聊风云，喜欢的朋友记得点个关注哦。

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