HUAWEI DevEco Studio 自 2020 年 9 月发布以来，经过 10 次升级，不断为 HarmonOS 应用开发增强能力。4 月 18 日，DevEco Studio 3.0 Beta3 版本上线，该版本新增 OpenHarmony 应用开发场景，全面支持开发者开发 OpenHarmony 应用及服务。

HUAWEI DevEco Studio 是基于 IntelliJ IDEA Community 开源版本打造，面向终端全场景多设备的一站式集成开发环境（IDE），同时支持 OpenHarmony 和 HarmonyOS 应用/服务（Application/Service）开发。
作为一款开发工具，除了具有基本的代码开发、编译构建及调测等功能外，DevEco Studio 支持多种 HarmonyOS 设备的应用/服务开发，多设备统一开发环境；支持多语言的代码开发和调试、FA（Feature Ability）和 PA（Particle Ability）快速开发、分布式多端应用/服务开发、多设备模拟器/预览器。
图源：HarmonyOS_Developer
DevEco Studio 3.0 是 HarmonyOS 3.0 和 OpenHarmony 3.1 应用及服务开发配套的集成开发环境（IDE），支持 ArkUI 声明式编程规范、低代码开发、双向预览、全新构建工具、ArkCompiler 方舟编译、模拟器、分布式调试调优、原子化服务体检、信息中心、汉化等功能。
图源：HarmonyOS_Developer
值得关注的是，DevEco Studio 3.0 Beta3 全新打造工具。提供 OpenHar/e 的、基于 JS 领域的打包和包管理技术，DevEco Studio 构建工具。这是一个全新的基于 TS 实现的轻量级提供工具，结合 NPM 领域包管理机制，主要提供任务管理机制、注册排列、工程管理、配置管理、全新的 JS/键通模式应用等关键能力。
图：重建工具；源：HarmonyOS_Developer
除了以上主要更新点，本次新版本还提供了 HiLog 日志系统，方便开发者设备的日志信息，同时提供了各种过滤方式，并且支持离线输出日志信息到本地。
DevEco Studio3.0 Beta3 还在支撑 evHarmonyOS 应用开发的功能上做了增强。如支持一键式生成自动化签名、本地支持路径“自定义”部署；支持远程支持且 P Preview40 Pro 2 小时后使用，由用户延长 1 小时延长使用时间延长至 2 小时。
更多 DevEco Studio3.0 Beta3 版本升级细节可访问https://developer.harmonyos.com/cn/develop/deveco-studio/release进行了解。 了解更多软件开发与相关领域知识，点击访问 InfoQ 官网：https://img.hflfx.com/pic/zr3l4juhvo3