国产光刻机技术有了新进展了！老狐最近得知，华为公布了自研光刻机的部分技术专利。
根据专利显示，华为申请的这项专利并不是制造 EUV 光刻机的专利，而是 EUV 光刻机其中一部分的专利。
该专利主要解决光刻机中的“匀光问题”，匀光问题”是在匀光系统上所出现的问题。
简单来说解决这个匀光问题，对成品质量有着决定性作用，光越均匀，成品也就越好，大大提高了良品率。
对华为的好处是，能更好地控制住成本，这样一来，商用的概率也就越大了。
事实上，除了国产光刻机技术在不断发展，国外光刻机的卡脖子状况，也出现了松动的迹象。
我国自主光刻机虽与外国先进水平仍有不小差距，但未来依然可期。
因此老狐认为，我们既不要妄自尊大，也不要妄自菲薄，只有脚踏实地，一步一步发展，才是正道。
参考资料：
新鼎资本：中国光刻机重大突破！美国急眼了？
嵌入式微处理器：首台 ASML 光刻机搬入！中国再添一座 12 英寸车规级晶圆厂
小武：华为光刻机新专利公布！国产芯片迎来曙光，麒麟明年真要回归了？？
网络图片
编辑：陈展翔
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